炭化ケイ素セラミックブッシュ

硬度:HV相当。

曲げ強度:400 ~ 600 mpa。

圧縮強度:>2000 mpa。

破壊靭性:3.5-4.5 mpa・m2。

熱膨張係数:4.0×10⁻⁶/°C。

熱伝導率:120-200 w /m・k。

ピッチ範囲:1.5-5mm。

概要
仕様
FAQ

Ⅰ。

炭化ケイ素セラミックブッシュ製品紹介:炭化ケイ素セラミックブッシュは、高純度炭化ケイ素(sic)セラミックパネルと金属またはポリマーバッキングプレートからなる高性能材料です。そのコア構造は、精密技術を介してセラミックスの硬質性と脆性と金属の靭性を組み合わせて形成する"剛性とソフト"複合システム。

1. 主な構成要素は以下のとおりです。

炭化セラミックパネル‌:高純度地金を作ったシリコン(SiC)。

裏当て板‌:鉄鋼またはは高分子材料で作られることが多い。


Ⅱ。

アプリケーション分野。

炭化ケイ素セラミックブッシュは、以下の産業で広く使用されています。

冶金:高温炉、耐摩耗性部品。

化学工業‌:Corrosion-resistantポンプ3 d炉裏地です

機械‌:ベアリング、封印。エネルギー‌:太陽光発電装置、おめでとう。

交通‌:自動車部品だ。航空宇宙‌、高温要素です


Ⅰ.Main features and advantages


characteristic

Specific performance

Advantages

High hardness and wear resistance

Hardness 20-30 GPa, Mohs hardness about 9.2-9.6

Second only to diamond, suitable for high wear environments

High temperature resistance

Can work stably in environments up to 1600°C

Suitable for high temperature industrial applications

chemical stability

Good resistance to corrosive media such as strong acids and alkalis

Suitable for harsh environments such as chemical industry

low coefficient of friction

Smooth surface and low friction coefficient

Reduce friction and wear

High strength and toughness

Bending strength 400-600 MPa, compressive strength>2000 MPa

Able to withstand greater pressure

Thermal properties

Thermal conductivity 120-200 W/m·K, thermal expansion coefficient 4.0×10⁻⁶/°C

Dimensional stability during temperature changes


Supports custom specifications.

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