窒化ケイ素絶縁リング

低熱膨張係数

●耐热強い腐蚀性

高温での抗酸化

高い強度と優れた耐熱衝撃性

概要
仕様
FAQ
精密Si₃N₄陶器成分

窒化ケイ素絶縁リング

窒化ケイ素绝縁指輪はprecision-engineeredから製造陶器成分窒化ケイ素(Si₃N₄)。これらは、電気絶縁、高い機械的強度、耐摩耗性、熱安定性、低熱膨張および耐薬品性の組み合わせを必要とする厳しい用途向けに設計されています。

Si₃N₄陶器  电気绝縁  高温
着耐性  風習次元

窒化ケイ素絶縁リングとは何ですか?

の窒化ケイ素絶縁リングは紐工学に陶磁器で成分窒化ケイ素から作られる(Si₃N₄)。従来の金属リングとは異なり、窒化ケイ素は機械的耐久性と電気絶縁性を兼ね備え、熱、酸化、化学的腐食および摩耗に対する強い耐性を備えています。


リング形状により、設計および動作環境に応じて、コンポーネントを絶縁スペーサー、構造サポート、シール関連コンポーネント、ベアリング関連コンポーネント、または高精度インターフェースコンポーネントとして使用できます。


提供された製品情報によると、窒化ケイ素リングは、耐久性、低摩擦、超高温耐性および腐食性物質に対する耐性が要求される厳しい環境に特に適しています。


窒化ケイ素素材:何でSi₃₄は

窒化ケイ素、一般的に書かれていますSi₃N₄,従来の金属やエンジニアリングプラスチックは、耐熱性、機械的強度、耐薬品性および電気絶縁の必要な組み合わせを提供することができないアプリケーションで使用される高性能テクニカルセラミックです。


窒化ケイ素は、鋼と比較して比較的密度が低く、高い機械的強度と硬度を維持します。これは、耐久性を犠牲にすることなく部品の質量を減らすことが重要な部品にとって魅力的です。


その低い熱膨張は、部品が繰り返し温度変化を経験したときに寸法安定性を維持するのにも役立ちます。この特性は、精密機器や高温アセンブリで重要な場合があります。

材料属性記述応用価値
高い硬度機械的摩耗に対する強い耐性長期使用のコンポーネントに便利です
低密度ポリエチレン約3.2-3.3 g / cm³部品の軽量化に役立つ
熱安定動作温度は1200°cまで高温設備に適している
低年の内に寸法安定性の維持に役立ちます精密アセンブリに役立ちます
电気绝縁Non-conductive陶磁材料絶縁部品に適している

窒化ケイ素絶縁リングの主な特長

高硬度&耐摩耗性

窒化ケイ素は、高い硬度と強い耐摩耗性を提供するため、機械的負荷、摩擦、反復運動にさらされる部品に適しています。

高温安定

付属の仕様書には、最大の動作温度が記載されています1200°C(2192戸°F)要求の厳しい熱環境での使用をサポートします。

化学&耐食性

窒化ケイ素は、酸やアルカリからの酸化や化学攻撃に耐性があるため、特定の化学処理環境に適しています。

低密度ポリエチレン

約の規定された密度と3.2-3.3 g / cm³、Si₃N₄体重優位かなりの鉄鋼部品を提供する。

低年の内に

低い熱膨張は、温度変動の間にリングの寸法安定性を保持するのに役立ちます。

电気绝縁

窒化ケイ素は非導電性セラミックであるため、適切な電気および電子アセンブリにおいて絶縁構造部品として機能することができます。

窒化ケイ素絶縁リング仕様

以下の仕様は、提供されたワアシジュリ製品情報に基づいています。寸法は、顧客に応じてカスタマイズすることができます'sの図面、機器の設計およびアプリケーションの要件。


仕様利用可能/代表的な範囲メモ
材料Si₃N₄窒化ケイ素陶器
材料タイプホットプレス/反応結合/焼結用途によって選択する
外径32 x内径(オデッドだ)5-300 mm利用可能な風習サイズ
内径(ID)2-250ミリ設計に応じてカスタマイズする
厚さ0.5-50 mmApplication-dependent
仕上面あらさ洗練されて0.01-0.1µm Ra申し込みlow-friction
屈曲力600-1000 MPa典型的な範囲述べ
作動温度1200°C実際のサービスの制限は、設計と環境によって異なります
密度3.2-3.3 g / cm³典型的な仕様供給される

重要なことです上記の仕様範囲は、製品情報からの参考値です。最終寸法,公差,表面仕上げ,材料グレードと性能要件は、顧客に対して確認する必要があります's技術図面および動作条件。

例窒化ケイ素絶縁リングサイズ

次の例では、エンジニアリングプロジェクトで異なるod、id、および厚さの組み合わせを指定する方法を示します。これらは、固定された標準サイズではなく、商品企画の例です。


例ODID厚さ潜在アプリケーション
小さな指輪10 mm5ミリ1ミリ精密絶縁
媒体指輪50 mm30ミリを5ミリ工業設備
大きな指輪100 mm前後の70ミリ10 mm高温機械
大型指輪200ミリ150 mm20 mm重工業設備

窒化ケイ素絶縁リングの応用

窒化ケイ素リングは、部品が機械的負荷、熱、摩耗、化学的暴露または電気絶縁の要件に同時に耐える必要がある用途に選択することができます。最終的な適合性は、実際の動作条件とエンジニアリング設計に依存します。


ベアリング&アンプ;ローリング要素

窒化ケイ素は、その低摩擦特性、硬度、耐摩耗性および熱特性から、高速および精密ベアリング関連用途に使用されています。

半導体製造

Si₃N₄リングwafer-processingで使うことができる、wafer-handlingやそれに伴う半導体道具精密■耐薬品性と电気绝縁大事なんだ

自動車

潜在的な用途としては、ターボチャージャー関連部品、エンジンシステム、耐摩耗性部品、特定の電気自動車機器などがあります。

航空宇宙

低密度、機械的強度、耐熱性を兼ね備えた窒化ケイ素は、航空宇宙およびタービン関連の部品に適しています。

医療装備

窒化ケイ素部品は、耐摩耗性、精度、材料性能が要求される一部の医療用途で使用されています。アプリケーション固有の生体適合性と規制要件は別々に検証する必要があります。

化学処理

窒化ケイ素リングは、ポンプ、シール、および攻撃的な化学環境にさらされるその他の装置に適用できます。

エネルギー&石油とガス

高圧で腐食性のある動作環境では、高い耐薬品性と耐摩耗性を備えたセラミック部品が求められます。

実験

精密セラミックリングは、寸法安定性、絶縁性、厳しい環境への耐性が必要な実験室や分析装置に組み込むことができます。

バッテリ設備

窒化ケイ素セラミック部品は、絶縁性、耐熱性、寸法安定性が要求される一部のバッテリ製造装置および試験装置に対して評価することができます。

窒化ケイ素リングを使用した産業

  • 自動車:高効率エンジン、ターボチャージャーシステム、選択されたevコンポーネント。

  • 半導体:ウェハハンドリング、プロセスおよびエッチング関連システム。

  • います石油・ガス機器およびその他の高圧または腐食性の環境。

  • 医療:高度な外科的、診断および選択されたインプラント関連アプリケーション。

  • 航空宇宙:タービンと高温エンジニアリングシステム。

  • 化学処理类:ポンプ、シール、耐腐食性機器。

  • 実験室:分析試験およびサンプル調製装置。

  • バッテリー製造:選択された高温および電気絶縁装置。

窒化ケイ素絶縁リング製造プロセス

精密窒化ケイ素リングの製造には、一般にいくつかの制御段階があります。選定依存ルート正確な過程Si₃N₄年生、環幾何で、許容範囲次元、密度、各要求およびsurface-finish要件を有することができる。


ステップ01

原材料準備

窒化ケイ素粉末を調製し、適切なバインダーおよび添加剤と組み合わせて、成形およびその後の処理をサポートします。

ステップ02

整形&形成

セラミック材料は、必要なリング形状に成形することができます。設計に応じて、成形技術には圧力ベースまたは成形ベースのプロセスが含まれます。

ステップ03

/焼成化は

制御された熱処理は、要求されるセラミック構造と機械的特性を開発するために使用されます。

ステップ04

精密加工

成形、高密度化後、精密加工、研削加工により、指定されたod、id、厚さ、寸法公差を達成することができます。

ステップ05

表面の仕上げ

低摩擦アプリケーションを含む滑らかな表面が必要な場合は、研磨または他の仕上げ作業を適用することができます。

ステップ06

検査&品質管理

完成したリングは、出荷前に合意された寸法、材料、表面および適用要件に対して検査する必要があります。

カスタム窒化ケイ素絶縁リング

産業用およびoemアプリケーションでは、多くの場合、リング形状は既存の機械的または電気的アセンブリと一致する必要があります。huacijuliは、お客様の仕様に基づいてカスタマイズされたセラミック製品の要件を議論することができます。


風習OD

必要な外径を指定します。

風習ID

シャフト、ハウジングまたは他の嵌合部品を一致させます。

風習厚さ

機械的要件と絶縁要件に応じて厚さを選択します。

仕上面あらさ

適切な用途に合わせて研磨面を指定できます。

材料年生

Hot-pressed、reaction-bondedまたはのSi₃N₄オプションに相谈することができます。

工学製図

お客様の図面やアプリケーション要件を確認してカスタマイズすることができます。

適切な窒化ケイ素絶縁リングの選び方

  1. 環の寸法を定義する。 必要な外径、内径および厚さを提供します。

  2. 動作温度を確認します。 コンポーネントが経験する連続温度とピーク温度を確認します。

  3. 評価機械やミニ・タキートス圧縮、摩擦、回転速度、振動、その他の機械的負荷を考慮してください。

  4. 化学露光調べろセラミックに接触する可能性のある酸、アルカリ、溶剤、ガス、その他の化学物質を識別します。

  5. 電気要件を定義する尺度を洗い出すのです絶縁機能と関連する電気的動作条件を指定します。

  6. 仕上面あらさ指定する低摩擦または高精度の界面では、必要な表面粗さを定義します。

  7. 技術図面を提供する。詳細な図面は、寸法、公差、および生産要件を正確に評価するのに役立ちます。

HUACIJULI

窒化ケイ素セラミック部品にhuacijuliを使用する理由は?

huacijuliは中国に拠点を置くサプライヤーで、実験室用機器、実験室用消耗品、高温アプリケーション用のカスタマイズされたセラミックおよび耐火金属製品ソリューション、およびバッテリー機器およびバッテリー消耗品を提供しています。


カスタマイズ解決策

寸法、材料の選択、動作環境、アプリケーションのニーズに基づいてカスタムセラミック要件を検討します。

技術通信

huacijuliチームは、プロジェクト要件をレビューし、エンジニアリングおよび購買評価のための製品情報を提供することができます。

複数のセラミック解決策

HUACIJULI'sの製品には、高温アプリケーション用にカスタマイズされたセラミックおよび耐火金属ソリューションが含まれます。

Project-Oriented支援

顧客は、さらなる技術的な議論のために図面、仕様およびアプリケーション要件を提供することができます。

窒化ケイ素絶縁リングプロジェクトについては、huacijuliまでお問い合わせください。

メール:sales@hc-sin.com 

電話:+86 180 5010 1292 

窒化ケイ素絶縁リングfaq

窒化ケイ素絶縁リングとは何ですか?
窒化ケイ素絶縁指輪は精密セラミックス製造の指輪窒化ケイ素(Si₃N₄)。これは、高硬度、耐摩耗性、熱安定性、低熱膨張および耐薬品性を有する電気絶縁を兼ね備えています。
窒化ケイ素リングはどのような温度に耐えることができますか?
付属の製品仕様書には、最高1200°c(2192°f)の動作温度が記載されています。実際のサービス性能は、特定の材料、雰囲気、機械的負荷、形状および動作条件によって異なります。
窒化ケイ素は電気的に絶縁されていますか?
はい。窒化ケイ素は、非導電性セラミックであり、適切なエンジニアリング用途で電気絶縁材料として使用することができます。
窒化ケイ素リングのサイズはどのようなものがありますか?
付属の仕様書には、外径が5 mm ~ 300 mm、内径が2 mm ~ 250 mm、厚さが0.5 mm ~ 50 mmと記載されています。カスタム寸法は、プロジェクトの要件に応じて利用可能です。
どのようなグレードの窒化ケイ素材料を使用することができますか?
提供される情報は、材料の種類としてホットプレス、反応結合、焼結窒化ケイ素を特定します。用途に応じて適切なグレードを選択してください。
huacijuliを製造することができますか?カスタム窒化ケイ素リング
はい。huacijuli氏によると、同社のチームは、顧客のニーズに応じてセラミック製品の要件を議論し、カスタマイズすることができます。お客様は、技術的な議論のために図面、寸法およびアプリケーション要件を提供することができます。
どのような表面仕上げがありますか?
供給された仕様リストを研磨し表面表面粗さ約0.01-0.1µm Raのlow-friction応用です。
どの業界の窒化ケイ素リングを使用しますか?
用途には、ベアリング、半導体製造、自動車、航空宇宙、医療機器、化学処理、エネルギー、実験機器、特定のバッテリ製造装置が含まれます。
見積もりを依頼する際には、どのような情報を提供すればよいですか?
正確な見積りのために、必要なod、id、厚さ、公差、材料グレード、表面仕上げ、数量、動作温度、機械的負荷、化学的環境、および利用可能な技術図面を提供してください。

カスタム窒化ケイ素絶縁リングをご請求ください

実験装置、半導体機械、自動車システム、航空宇宙部品、化学処理装置、エネルギーアプリケーション、またはその他の産業システム用に窒化ケイ素セラミックリングを調達する場合は、サプライヤーに連絡する前に技術要件を準備してください。


推奨RFQ情報:

  • 窒化ケイ素材料グレード

  • 外径32 x内径(OD)

  • 内径(ID)

  • 指輪厚さ

  • 許容範囲次元

  • 表面粗さ/仕上げ

  • 作動温度

  • 機械的負荷または回転条件

  • 化学環境

  • 电気绝縁要件

  • 必要量

  • 可能な場合は、技術図面またはcadファイル

窒化ケイ素絶縁リング:重要なテイクアウト

窒化ケイ素絶縁リングは、高硬度、耐摩耗性、熱安定性、耐薬品性、低密度、低熱膨張、電気絶縁など、要求の厳しい産業環境で価値のある特性の組み合わせを提供します。


参照寸法からの範囲で5-300 mm OD、2-250 mm IDと~ 0.5-50 mmの厚さオーダーメイドのサイジングと合わせて、窒化ケイ素リングは、精密機器や産業アプリケーションの広い範囲のために設計することができます。

The following specifications are based on the supplied HUACIJULI product information. Dimensions can be customized according to the customer's drawing, equipment design and application requirements.


SpecificationAvailable / Typical RangeNotes
MaterialSi₃N₄Silicon nitride ceramic
Material TypeHot-pressed / Reaction-bonded / SinteredSelection depends on application
Outer Diameter (OD)5–300 mmCustom sizes available
Inner Diameter (ID)2–250 mmCustomized according to design
Thickness0.5–50 mmApplication-dependent
Surface FinishPolished, 0.01–0.1 µm RaFor low-friction applications
Flexural Strength600–1000 MPaStated typical range
Operating TemperatureUp to 1200°CActual service limit depends on design and environment
Density3.2–3.3 g/cm³Typical supplied specification




The following examples demonstrate how different OD, ID and thickness combinations can be specified for engineering projects. They are examples for product planning rather than fixed standard sizes.


ExampleODIDThicknessPotential Application
Small Ring10 mm5 mm1 mmPrecision insulation
Medium Ring50 mm30 mm5 mmIndustrial equipment
Large Ring100 mm70 mm10 mmHigh-temperature machinery
Heavy-Duty Ring200 mm150 mm20 mmHeavy industrial equipment

What is Silicon Nitride used for?

-Rotating ball bearings and rollers bearings
-Cutting tools
-Engine components: valves, rocker arm pads, and seal faces
-Induction heating coil supports
-Turbine blades, vanes, and buckets
-Welding and brazing jigs
-Heating Element components
-Crucibles
-Metal tube forming rolls and dies
-TIG / Plasma welding nozzles
-Weld positioners
-Precision shafts and axles in high
-wear environments
-Thermocouple sheaths and tubes
-Semiconductor Process Equipment

What are the advantages of Silicon Nitride?

Compared with other technical ceramics, the low thermal expansion coefficient of Silicon Nitride provides good thermal shock resistance. It is extremely hard, fracture-tough, surpasses the high temperature capabilities of most metals, and also has a superior oxidation resistance. As a consequence, silicon nitride can withstand the toughest conditions in the most demanding high-temperature and high-load applications.

What is the formula for Silicon Nitride?

The formula for silicon nitride is Si3N4.

に連絡

ご意見やご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせください。