窒化ケイ素セラミック基板

断熱と熱伝導率

With a thermal conductivity of >80W/(m*k).

概要
仕様
FAQ

電子基板は、主な基板であり、エレクトロニクス製造業界で広く使用されています。


窒化ケイ素電子基板は、主にその絶縁性と熱伝導性のために使用されます。超大規模集積回路や電子チップは、計算量が多く発熱が大きいため、絶縁や放熱に対する要求が高まっています。窒化ケイ素電子基板は、この問題を解決することができます。


窒化ケイ素セラミックで作られ、特殊な方式とプロセスを使用して、各基板は、>80 w /(m*k)の熱伝導率で、2000°cで焼結されます。これは、国際的な大手企業の品質検査に合格し、顧客のニーズに応じてサイズをカスタマイズすることができます。


What is Silicon Nitride used for?

-Rotating ball bearings and rollers bearings
-Cutting tools
-Engine components: valves, rocker arm pads, and seal faces
-Induction heating coil supports
-Turbine blades, vanes, and buckets
-Welding and brazing jigs
-Heating Element components
-Crucibles
-Metal tube forming rolls and dies
-TIG / Plasma welding nozzles
-Weld positioners
-Precision shafts and axles in high
-wear environments
-Thermocouple sheaths and tubes
-Semiconductor Process Equipment

What are the advantages of Silicon Nitride?

Compared with other technical ceramics, the low thermal expansion coefficient of Silicon Nitride provides good thermal shock resistance. It is extremely hard, fracture-tough, surpasses the high temperature capabilities of most metals, and also has a superior oxidation resistance. As a consequence, silicon nitride can withstand the toughest conditions in the most demanding high-temperature and high-load applications.

What is the formula for Silicon Nitride?

The formula for silicon nitride is Si3N4.

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