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ワチ社のすべての重要で興味深いもの。同社の新製品、開発、主要な成果についてご覧ください。

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11 2026-02
Cleanroom-Compatible窒化ケイ素(Si₃N₄)セラミックス球を超精密半導体システム
半導体製造施設では、クリーンルームの分類によってプロセス歩留まりとデバイスの信頼性が直接決まります。isoクラス3またはそれ以上の厳しい環境で動作するかどうかにかかわらず、コンポーネントレベルの粒子制御は交渉の余地のない要件です。ウェーハ処理装置内で使用される機械要素は、長期運用中に実質的にゼロ汚染を発生させる必要があります。
11 2026-02
窒化ケイ素(Si₃N₄)ボールで、半導体製造装備
半導体製造には、極めて高い精度、汚染制御、動作安定性が求められます。ウェーハ製造環境では、微細な粒子やわずかな機械的偏差であっても、歩留まりの損失や大きな財務上の影響につながる可能性があります。そのため、半導体ツール内のすべての部品は、厳しい性能および純度基準を満たす必要があります。
11 2026-02
形成技術な精密窒化ケイ素(Si₃N₄)ボール
窒化ケイ素の製造(Si₃N₄)ボール形成正念場ステップ直接影響な次元精度内部密度分布、全体的な構造正気。高品質の原材料と最適化された粉体調製法を使用していても、不適切な成形技術によって欠陥が生じ、性能と信頼性が制限される可能性があります。
11 2026-02
原材料や真珠粉高性能窒化ケイ素準備(Si₃N₄)ボール
窒化ケイ素の性能(Si₃N₄)玉が根本的に质によって定められている原材料や真珠粉準備工程上。は決定的です終えた最終加工のは精密に内在する機械力耐摩耗性、と信頼度Si₃N₄ボール粉級大きい。高性能ベアリングや工業用途には、粉体純度、粒度分布、相組成の制御が不可欠です。
11 2026-02
窒化ケイ素(Si₃N₄)ボール:素材の基礎と産業の意味
窒化ケイ素(Si₃N₄)ボールが先进で陶器構成要素のを特別な機械ん自他ともに認める、熱安定や耐摩耗性できる従来の玉より、Si₃N₄ボール産業環境を要求した優れた性能開設させる重要な材料の選択と高速軸受け精密機器/苛酷な営業条件。高く長い産業を引き続き推進するとしてを効率、寿命維持費は減り、地盤が弱くなり、窒化ケイ素(Si₃N₄)ボール現代工学は欠かせないものとなりました解決策作成しました
10 2026-02
ロボット溶接セルの長期信頼性のための窒化ケイ素セラミックのセンタリングピン
ロボット溶接セルは、最小限のダウンタイムで連続して大量生産できるように設計されています。したがって、部品の信頼性は重要な考慮事項です。窒化ケイ素セラミックのセンタリングピンは、機械的、熱的、および環境的ストレス下でアライメントの完全性を維持することによって長期的な信頼性を高めます。
新しい窒化ケイ素セラミック材料の研究開発と製造に専念しています

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